卷对卷狭缝涂布机-电晕处理的应用

湖南纳昇电子科技有限公司，作为全球高精密狭缝涂布技术领域的领导者，其产品系列广泛满足从实验室级别（10-300毫米）、中试/小规模生产级别（300-600毫米）到大规模生产级别（600毫米及以上）的各类涂布尺寸需求。该公司不仅支持刚性基材的片对片（S2S）加工模式，还兼容柔性基板的卷对卷（R2R）生产工艺，精确满足显示面板、有机太阳能电池（OPV）、钙钛矿太阳能电池、氢燃料电池、半导体封装等光伏与光电领域的严格涂布标准。迄今为止，纳昇电子的科研级狭缝涂布设备已成功服务于国内超过300家科研机构与高等院校，积累了深厚的涂布工艺经验及坚实的行业基础。

纳昇电子的卷对卷狭缝涂布（RD R2R系列产品）的基本功能结构涵盖了多个关键部分，确保了整个涂布过程的高效和精确。首先，收放卷系统负责存储和供应原始的基材，确保基材在涂布过程中能够平稳地进行传输。其次，张力控制系统通过精确调节基材的张力，保证涂布过程中的稳定性和涂布质量。接着，前处理单元在涂布之前对基材进行必要的预处理，以确保涂布材料能够更好地附着在基材上。电晕处理单元是前处理环节中的一个重要组成部分，它通过电晕放电的方式对基材表面进行活化处理，从而提高基材表面的润湿性和粘附性，这对于后续的涂布过程至关重要。此外，涂布单元是整个设备的核心部分，负责将涂布材料均匀地涂覆在基材上。涂布完成后，后处理单元会对涂布层进行进一步的处理，以确保涂布层的质量和性能。复合单元则用于将涂布后的基材与其他材料进行复合，以满足特定的应用需求。最后，纠偏系统的作用是确保基材在涂布过程中始终保持正确的路径，避免因偏移而导致的涂布缺陷。整个RD R2R系列产品通过这些功能结构的协同工作，实现了高质量、高效率的卷对卷狭缝涂布过程。

电晕处理工艺，亦称电击处理或电火花处理，其原理是利用高频率高电压在被处理材料表面产生电晕放电，从而形成等离子体。在电晕处理区域内，产生大量正、负离子，在强电场的驱动下，这些离子分别向与之极性相反的电极移动。在未到达电极之前，它们会与通过电极之间的薄膜或其他处理物相碰撞，通过弹性碰撞将能量传递给被处理物质，失去速度的电子随后附着在被冲击物表面。经过电子冲击，不仅不会降低薄膜本身的物理机械性能，反而提升了其润湿性能和对油墨的附着性能。因此，该方法已成为薄膜涂布前预处理的主要方法。

经过电晕放电处理的基材表面变得粗糙，增加了表面活性，即提高了材料表面的润湿性能，使得油墨或其他涂布印刷浆料更易于附着于基材表面，从而获得更佳的涂布效果，涂布均匀性和一致性得到显著提升。同时，该处理还能有效去除基材表面的油污、水气和尘垢等杂质。在基材上进行电晕处理后，柔性钙钛矿中的传输层、钙钛矿层、封装层等的表面成膜质量明显更加均匀与致密；氢染料电池质子交换膜与膜电极的成膜均匀性，优于3%以下。